磁控溅射陶瓷膜是一种通过物理气相沉积技术制备的薄膜。该技术是利用高能离子轰击靶材表面,使得靶材原子或分子从靶材表面剥离并沉积在基底上的一种方法。其中的"磁控"指的是在制备过程中,使用了外加磁场来调节离子轰击靶材表面的角度和方向；"溅射"指的是由于离子轰击而产生的原子或分子从靶材表面剥离并沉积在基底上。
该技术可以制备出具有高硬度、高耐磨性、高化学稳定性等特点的陶瓷薄膜。这些特点使得该膜广泛应用于电子、光学、机械等领域,如半导体器件、涂层保护、摩擦削减等方面。
采用了多层聚酯膜技术。将240层的聚酯膜叠加在一起,制成仅有0.05mm厚的隔热膜,它不仅透光性好,同时隔热性和使用寿命也都很好,并且还没有电磁信号干扰等特点。
氮化钛纳米陶瓷材质不阻隔信号,确保信号稳定无忧,侧后挡使用高性能快干粘合剂,3小时快速干燥。
